Chi tiết

Công nghệ nguyên tố: Giải pháp cho các nhà sản xuất và chế tạo kim loại (Phần 1)

Trong suốt nhiều năm, các nhà chế tạo kim loại luôn phải tiến hành các thử nghiệm tốn kém trong phòng thí nghiệm để xác minh khả năng tương thích của vật liệu gia công. Tuy nhiên ngày nay, những tiến bộ trong công nghệ phân tích nguyên tố đã giúp doanh nghiệp tiết kiệm rất nhiều thời gian và tiền bạc cho công đoạn này. Dưới đây là một số ví dụ:

Máy phân tích XRF và LIBS

Gần đây, máy phân tích XRF và LIBS đang ngày càng trở nên dễ sử dụng và dễ sử dụng đến mức chúng có thể được sử dụng để nhận dạng nguyên tố nhanh chóng, đáng tin cậy và xác minh vật liệu trong hầu hết mọi địa điểm, môi trường hiện trường hoặc điều kiện thời tiết.

Ngày nay, các kỹ thuật phân tích nguyên tố của máy tính bao gồm: huỳnh quang tia X cầm tay (XRF), quang phổ phân tích do tia laser cầm tay (LIBS) và quang phổ phát xạ quang (OES). Hiểu làm thế nào các công nghệ này xếp chồng lên nhau là điều cần thiết để bạn có thể tự tin chọn công nghệ tốt nhất cho doanh nghiệp của mình.

XRF, LIBS và OES hoạt động như thế nào?

XRF, LIBS và OES là các loại kỹ thuật phân tích nguyên tố khác nhau. Mỗi công nghệ, theo cách riêng đều cung cấp các kết quả với những ưu và nhược điểm khác nhau. Người dùng có thể chọn một công nghệ này hay một công nghệ khác vì nhiều lý do. Đầu tiên, hãy cùng khám phá cách mỗi công nghệ hoạt động.

XRF là một kỹ thuật phân tích không phá hủy được sử dụng để xác định thành phần nguyên tố của vật liệu. Trong quá trình XRF, một mẫu được chiếu xạ bằng tia X năng lượng cao được tạo ra bởi máy phân tích XRF. Điều này khiến các nguyên tử trong mẫu phát ra tia X thứ cấp (hoặc huỳnh quang), có thể được phát hiện và xử lý để xác định nguyên tố nào có mặt. Mỗi tia X huỳnh quang là duy nhất cho thành phần nguyên tố của mẫu, làm cho nó trở thành một công cụ tuyệt vời để định lượng và phân tích định lượng.

LIBS là một kỹ thuật phân tích khác được sử dụng để xác định thành phần hóa học nguyên tố. Máy phân tích LIBS hoạt động bằng cách sử dụng tia laser tập trung cao để mài mòn bề mặt của mẫu. Một plasma được hình thành bao gồm các nguyên tử và ion bị kích thích điện tử. Khi các nguyên tử này phân rã trở lại trạng thái cơ bản của chúng, chúng phát ra các bước sóng ánh sáng đặc trưng, ​​hoặc “các dấu vân tay độc đáo”. Tương tự như XRF, LIBS là một công cụ tuyệt vời để thực hiện phân tích định lượng và định tính.

OES là kỹ thuật thứ ba được sử dụng để thu được hóa học nguyên tố. Nó tương tự như LIBS, nhưng thay vào đó sử dụng một xung điện cao áp để kích thích các nguyên tử. Mỗi nguyên tử trong phóng điện hồ quang/tia lửa hình thành ở bề mặt mẫu phát ra các vạch cụ thể được phát hiện có chọn lọc bằng máy quang phổ quang học trong thiết bị OES. Các đặc tính của các dòng này được sử dụng để xác định thành phần hóa học của mẫu được thử.

Văn phòng NSCL biên dịch

Tin mới